半導(dǎo)體檢測(cè)是集成電路制造過程中保證良率和可靠性的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。從晶圓材料到芯片封裝,每一步都需要精準(zhǔn)的光學(xué)檢測(cè)與表征。科學(xué)相機(jī)作為核心探測(cè)器,其分辨率、靈敏度、速度和可靠性直接決定了微米/納米級(jí)缺陷的檢出率和檢測(cè)設(shè)備的性能穩(wěn)定性。針對(duì)不同檢測(cè)場(chǎng)景,我們提供從大靶面高速掃描到高速TDI掃描的全系列相機(jī)解決方案,廣泛應(yīng)用于晶圓缺陷檢測(cè)、光電發(fā)光測(cè)試、晶片尺寸計(jì)量和封裝質(zhì)量控制等領(lǐng)域。
典型QE:63.9%@266 nm
最大行頻:1 MHz@8 / 10 bit
TDI 等級(jí):256 級(jí)
制冷方式::水冷/風(fēng)冷
典型QE:38%@266 nm
最大行頻:510 KHz?@8 bit
TDI 等級(jí):256 級(jí)
制冷方式::水冷/風(fēng)冷
典型QE:50%@266 nm
最大行頻:600KHz?@8 bit /10 bit
TDI 等級(jí):256 級(jí)
制冷方式::水冷/風(fēng)冷
讀出噪聲:1.5~3.9 e-
成像靶面:11 mm
像元尺寸:2.74 μm?
像元尺寸:6.5~16?μm?
像元尺寸:6.5~11?μm?
讀出噪聲:2.0 e -